光氧催化設備工作條件及工作效率

光氧催化設備工作是氣體環(huán)境溫度在攝氏60℃以下、濕度在90%以下、無(wú)固體粉塵，處理的成分應當只是氣體，滿(mǎn)足以上三個(gè)條件時(shí)可以達到的凈化效果，如濕度及溫度過(guò)高需作預處理，在廢氣處理過(guò)程中不可有固體粉塵及大量水蒸汽進(jìn)入設備，這樣會(huì )直接影響除臭效果，甚至沒(méi)果，光催化氧化停留時(shí)間控制在合理范圍之內。

光氧催化設備除臭效果和除臭效率：

能夠去除各種廢氣如烴類(lèi)、醛類(lèi)、酚類(lèi)、醇類(lèi)、硫醇類(lèi)、苯類(lèi)、氨類(lèi)、氮氧化物、硫化物以及其它VOC類(lèi)物及無(wú)機物。對原子物如鹵代烴、染料、含氮物、磷殺蟲(chóng)劑也有很好的去除效果，只要達到的反應時(shí)間和反應環(huán)境配比即可達到氧化，可以說(shuō)氫氧自由基的氧化對象幾乎沒(méi)有選擇性，能跟任何現有物質(zhì)反應。除臭凈化效果可達以上，除臭效果超過(guò)1993年頒布的惡臭物質(zhì)排放標準（GB14554-93）。

光氧催化設備是在外界可見(jiàn)光的作用下發(fā)生催化作用，以半導體及空氣為催化劑，以光為能量，將物降解為CO2和H2O及其它成份。本公司利用人工紫外線(xiàn)光波作為能源，配合經(jīng)我公司處理后活性、反應效率的納米TiO2催化劑，廢臭氣體經(jīng)過(guò)處理后可達到凈化的更理想的效果。

在半導體光催化氧化反應中，通過(guò)紫外光照射在納米TiO2催化劑上，納米TiO2催化劑吸收光能產(chǎn)生電子躍進(jìn)和空穴躍進(jìn)，經(jīng)過(guò)進(jìn)一步的結合產(chǎn)生電子-空穴對，與廢氣表面吸附的水分（H2O）和氧氣（O2）反應生成氧化性很活波的自由基和超氧離子自由基。能夠把各種廢氣如烴類(lèi)、醛類(lèi)、酚類(lèi)、醇類(lèi)、硫醇類(lèi)、苯類(lèi)、氨類(lèi)、氮氧化物、硫化物以及其它VOC類(lèi)物及無(wú)機物在光催化氧化的作用下還原成二氧化碳（CO2）、水（H2O）以及其它物質(zhì)，經(jīng)過(guò)凈化之后的廢氣分子被活化降解，臭味也同時(shí)消失了，起到了廢氣凈化的作用，同時(shí)對管道內滋生的病毒都可以的去除，由于在光催化氧化反應過(guò)程中無(wú)任何添加劑，所以不會(huì )產(chǎn)生二次污染，運行成本方面只是用到電能，無(wú)需經(jīng)常更換配件，對于企業(yè)來(lái)的使用上是相當的節能環(huán)保